Scaling of 32nm low power SRAM with high-K metal gate by Yang, H.S., Wong, R., Hasumi, R., Gao, Y., Kim, N.S., Lee, D.H., Badrudduza, S., Nair, D., Ostermayr, M., Kang, H., Zhuang, H., Li, J., Kang, L., Chen, X., Thean, A., Arnaud, F., Zhuang, L., Schiller, C., Sun, D.P., Teh, Y.W., Wallner, J., Takasu, Y., Stein, K., Samavedam, S., Jaeger, D., Baiocco, C.V., Sherony, M., Khare, M., Lage, C., Pape, J., Sudijono, J., Steegen, A.L., Stiffler, S.

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