Search Results - Th. Gessner
-
1
-
2
-
3
Das Integrationspotential mesoporöser SiO2‐Schichten als ultra‐low‐k Dielektrikum. Mesoporous SiO2 as low‐k dielectric for integration in Cu/low‐k interconnect systems
Published in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne SchichtenGet full text
Article -
4
Das Integrationspotential mesoporöser SiO 2 ‐Schichten als ultra‐low‐k Dielektrikum. Mesoporous SiO 2 as low‐k dielectric for integration in Cu/low‐k interconnect systems...
Published in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne SchichtenGet full text
Article -
5
-
6
Das Integrationspotential mesoporöser SiO2-Schichten als ultra-low-k Dielektrikum. Mesoporous SiO2 as low-k dielectric for integration in Cu/low-k interconnect systems
Published in Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne SchichtenGet full text
Article -
7
-
8
-
9
-
10
-
11
-
12
-
13
-
14
-
15
-
16
-
17
-
18