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锆在含四丁基溴化铵异丙醇溶液中的腐蚀行为

采用循环伏安、线性扫描、计时电流和扫描电镜(SEM)方法研究锆在含四丁基溴化铵异丙醇溶液中的腐蚀行为。循环伏安曲线表明,在 Br^-击穿钝化膜诱发点蚀前,锆在异丙醇溶液中不发生活性溶解。扫描电子显微镜证实了点蚀的发生,且电位正移,点蚀加剧,深度增加,腐蚀面积增大。随着溶液温度升高,四丁基溴化铵的浓度增大,锆点蚀电位均下降;而随着扫描速度增大,锆点蚀电位升高。腐蚀电流密度随温度升高而增大,锆阳极溶解表观活化能为21.88 kJ/mol。计时电流曲线表明,四丁基溴化铵浓度增大,点蚀诱导时间缩短,点蚀成核和生长速度均增大。该研究结果有利于获得电化学合成异丙醇锆的最佳工艺条件。...

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Published in:中国有色金属学报:英文版 2016, Vol.26 (10), p.2738-2745
Main Author: 杨喜云 黄海强 杨声海
Format: Article
Language:English
Subjects:
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Description
Summary:采用循环伏安、线性扫描、计时电流和扫描电镜(SEM)方法研究锆在含四丁基溴化铵异丙醇溶液中的腐蚀行为。循环伏安曲线表明,在 Br^-击穿钝化膜诱发点蚀前,锆在异丙醇溶液中不发生活性溶解。扫描电子显微镜证实了点蚀的发生,且电位正移,点蚀加剧,深度增加,腐蚀面积增大。随着溶液温度升高,四丁基溴化铵的浓度增大,锆点蚀电位均下降;而随着扫描速度增大,锆点蚀电位升高。腐蚀电流密度随温度升高而增大,锆阳极溶解表观活化能为21.88 kJ/mol。计时电流曲线表明,四丁基溴化铵浓度增大,点蚀诱导时间缩短,点蚀成核和生长速度均增大。该研究结果有利于获得电化学合成异丙醇锆的最佳工艺条件。
ISSN:1003-6326