Innenrücktitelbild: Das Tris(pentafluorethyl)silanid‐Anion (Angew. Chem. 52/2016)

Während Tris(trifluormethyl)silane bei Raumtemperatur zur explosionsartigen Zersetzung neigen, erweisen sich entsprechende Pentafluorethyl‐Derivate als thermisch äußerst robust. Durch den präparativen Zugang zu Li[Si(C2F5)3] ist es nun möglich, die elektronenziehende Si(C2F5)3‐Einheit nukleophil auf...

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Published in:Angewandte Chemie 2016-12, Vol.128 (52), p.16411-16411
Main Authors: Schwarze, Nico, Steinhauer, Simon, Neumann, Beate, Stammler, Hans‐Georg, Hoge, Berthold
Format: Article
Language:English
Subjects:
Fluor
Hydrosilylierungen
Perfluoralkylverbindungen
Silane
Silanide
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Description
Summary:Während Tris(trifluormethyl)silane bei Raumtemperatur zur explosionsartigen Zersetzung neigen, erweisen sich entsprechende Pentafluorethyl‐Derivate als thermisch äußerst robust. Durch den präparativen Zugang zu Li[Si(C2F5)3] ist es nun möglich, die elektronenziehende Si(C2F5)3‐Einheit nukleophil auf Hauptgruppen‐ und Übergangsmetall‐Verbindungen sowie auch auf organische Gerüste zu übertragen, wie B. Hoge et al. in zwei Zuschriften auf S. 16390 ff. und S. 16395 ff. zeigen.
ISSN:0044-8249
1521-3757
DOI:10.1002/ange.201611311