Résistivité de couches minces d'alliages Ag-Pd entre 273 et 700 K

• Published in: Thin solid films 1977-07, Vol.44 (1), p.109-116
• Main Authors: Ferraton, J.P., Robin, J.
• Format: Article
• Language: fre
• ISSN: 0040-6090; 1879-2731
• DOI: 10.1016/0040-6090(77)90033-5

La résistivité de couches minces d'alliages Ag-Pd a été mesurée entre 273 et 700 K. A partir de la variation de la résistivité de couches minces d'alliages au cours d'un premier traitement thermique, on déduit la distribution énergétique des défauts présents dans ces couches minces à l'issue de leur fabrication. La variation de la résistivité avec la composition des couches minces stabilisées est analysée compte tenu de l'évolution de la densité d'états au niveau de Fermi. Pour un alliage Ag-Pd de composition donnée, la différence observée entre la résistivité des couches minces et celle des échantillons massifs semble liée au degré de désordre structurel. The resistivity of thin Ag-Pd alloy films has been measured between 273 and 700 K. The variation of the resistivity of the films during a first thermal treatment allows the energy distribution of the faults present in these layers at the end of the manufacturing process to be deduced. The variation of the resistivity of thin stabilized alloy films as a function of their composition is analysed taking into account changes in the density of states at the Fermi level. For Ag-Pd alloys of a given composition, the differences observed between thin film and bulk sample resistivities seem to be related to the degree of structural disorder.