Influence de l'état de la surface sur les propriétés optiques de couches minces de silicium amorphe hydrogéné déposées par “glow discharge”

• Published in: Thin solid films 1983, Vol.103 (1), p.243-248
• Main Authors: de Chelle, F, Berger, J.M, Ance, C, Coulibaly, S.P, Ferraton, J.P, Donnadieu, A, Zellama, K, Germain, P, Squelard, S
• Format: Article
• Language: fre
• ISSN: 0040-6090; 1879-2731
• DOI: 10.1016/0040-6090(83)90439-X

Des mesures de pouvoir réflecteur diffusé et spéculaire et de la transmission dans le domaine d'énergie compris entre 0,5 et 5,5 eV ont été effectuées sur des couches minces de silicium amorphe hydrogéné recuites séparément á des températures comprises entre 20 et 600°C. Au-dessus de 2eV ces mesures indiquent l'existence de lumiére diffusée plus ou moins importante selon les échantillons étudiés. On doit tenir compte de cette diffusion due à la rugosité de la surface aussi bien pour comparer les variations de l'indice de réfraction statique avec la température de recuit T r ou de mesure T m que pour appliquer la relation de Bahl et Baghat. Diffuse and specular reflectance and transmittance measurements in the energy range 0.5–5.5 eV were performed on glow discharge hydrogenated amorphous silicon films annealed separately at temperatures varying from 20 to 600 °C. These measurements indicate that photons with energies greater than 2 eV are scattered to some extent by the films. The presence of scattering through surface roughness must be taken into account to compare the variations in the static refractive index with annealing temperature T r and measurement temperature T m and to apply the Bahl and Baghat relation.