Fabricación y caracterización de películas delgadas de [Alq.sub.3]

Películas delgadas de [Alq.sub.3] (tris (8-hidroxiquinolato) de aluminio) se depositaron sobre vidrio mediante evaporación térmica con el fin de establecer las tasas de evaporación óptimas para depositar películas entre 30 a 120 nm sobre un sustrato a temperaturas entre 60 y 120[grados]C. Las pelícu...

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Published in:Ingeniería y ciencia (Medellín, Colombia) Colombia), 2014-07, Vol.10 (20), p.37
Main Authors: Adames, R.P, Segura, J.A, Gómez, D.P, Ardila, A.M
Format: Article
Language:Spanish
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Description
Summary:Películas delgadas de [Alq.sub.3] (tris (8-hidroxiquinolato) de aluminio) se depositaron sobre vidrio mediante evaporación térmica con el fin de establecer las tasas de evaporación óptimas para depositar películas entre 30 a 120 nm sobre un sustrato a temperaturas entre 60 y 120[grados]C. Las películas fueron caracterizadas mediante microscopía SEM y perfilometría para comparar el espesor obtenido in-situ mediante un cristal de cuarzo; adicionalmente se realizaron medidas de fotoluminiscencia. Palabras clave: película delgada; evaporación térmica; sustrato; caracterización; semiconductor orgánico. [Alq.sub.3] (tris (8-hydroxyquinolate) aluminum) thin films were deposited on glass by thermal evaporation in order to establish the optimal evaporation rates of thin films deposited between 30 to 120nm on a substrate with temperatures between 60 and 120[grados]C. The thin films were characterized by SEM microscopy and perfilometry to compare the obtained thickness in-situ by quartz crystals; furthermore photoluminescence measures were made. Key words: thin film; thermal evaporation; substrate; characterization; organic semiconductor.
ISSN:1794-9165