Diffusion et codiffusion du bore et de l'arsenic dans le silicium monocristallin lors de recuits rapides isothermes

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Published in:Semiconductor science and technology 1992, Vol.7 (2), p.181-187
Main Authors: GONTRAND, C, ANCEY, P, HADDAB, H, CHAUSSEMY, G
Format: Article
Language:fre
Subjects:
Diffusion dans les solides
Diffusion des impuretés
Etat condense: structure, proprietes mecaniques et thermiques
Physique
Propriétés de transport (non électroniques)
Sciences exactes et technologie
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Description
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ISSN:0268-1242
1361-6641