电磁场辅助CVD沉积倒锥状热解炭的微结构及形成机理

采用电磁场辅助CVD法,在650～750℃的温度下制备出具有中空结构的倒锥状热解炭.此类倒锥状热解炭生长在C/C复合材料中热解炭的表面.采用高分辨率透射电镜对倒锥状热解炭的内部结构进行精细表征.结果表明,倒锥状热解炭的内部织构呈现出从根部杂乱的缠绕织构直接到其紧邻茎部有序的高织构的变化趋势,而从其茎部至锥尾部区域,炭微晶结构有序化程度逐渐降低.倒锥状热解炭的形成机理可推测为是一种在强电磁场作用下的极化诱导效应和击穿放电作用下的颗粒填充效应的综合作用....

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Published in:中国有色金属学报（英文版） 2012, Vol.22 (10), p.2569-2577
Main Authors: 涂川俊, 黄启忠, 张明瑜, 赵新奇, 陈江华
Format: Article
Language:Chinese
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Description
Summary:采用电磁场辅助CVD法,在650～750℃的温度下制备出具有中空结构的倒锥状热解炭.此类倒锥状热解炭生长在C/C复合材料中热解炭的表面.采用高分辨率透射电镜对倒锥状热解炭的内部结构进行精细表征.结果表明,倒锥状热解炭的内部织构呈现出从根部杂乱的缠绕织构直接到其紧邻茎部有序的高织构的变化趋势,而从其茎部至锥尾部区域,炭微晶结构有序化程度逐渐降低.倒锥状热解炭的形成机理可推测为是一种在强电磁场作用下的极化诱导效应和击穿放电作用下的颗粒填充效应的综合作用.
ISSN:1003-6326
DOI:10.1016/S1003-6326(11)61502-1