Covalent Immobilization of a TiW5 Polyoxometalate on Derivatized Silicon Surfaces

Kovalent gebunden: Das Polyoxometallat (nBu4N)3[(MeO)TiW5O18] lässt sich einfach an Alkanol‐funktionalisierten Oberflächen von porösem und einkristallinem Silicium verankern (siehe Bild, Polyeder: Polyoxometallat, dunkelblau: Si‐Oberfläche). Rastertunnelmikroskopisch wurden auf funktionalisiertem Si...

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Published in:Angewandte Chemie 2005-02, Vol.117 (8), p.1280-1283
Main Authors: Errington, R. John, Petkar, Sagar S., Horrocks, Benjamin R., Houlton, Andrew, Lie, Lars H., Patole, Samson N.
Format: Article
Language:English
Subjects:
Alkoxide
Oberflächenchemie
Polyoxometallate
Titan
Wolfram
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Description
Summary:Kovalent gebunden: Das Polyoxometallat (nBu4N)3[(MeO)TiW5O18] lässt sich einfach an Alkanol‐funktionalisierten Oberflächen von porösem und einkristallinem Silicium verankern (siehe Bild, Polyeder: Polyoxometallat, dunkelblau: Si‐Oberfläche). Rastertunnelmikroskopisch wurden auf funktionalisiertem Si(111) Inseln mit 35–50 nm Durchmesser nachgewiesen, was für die immobilisierten Polyoxometallate als Keime für elektrostatische Aggregation spricht.
ISSN:0044-8249
1521-3757
DOI:10.1002/ange.200461065