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Flash Lamp Annealing (FLA) of Magnetron Sputtered Low-Temperature TCO Coatings

Dunne TCO-Schichten, wie ITO und AZO, werden ublicherweise in Anwendungen genutzt, bei denen hoch leitfähige und transparente Systeme notwendig sind. Beispiele großflächiger Anwendungen von TCO-Schichten sind in den Technologiegebieten Display, Touch-Panel, Elektroluminizenz, Elektrochromie, energie...

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Published in:Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten Oberflèachen und Dünne Schichten, 2017-08, Vol.29 (4), p.21
Main Authors: Panckow, Andreas N, David, Clement, Weber, Jörg
Format: Article
Language:ger
Subjects:
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Description
Summary:Dunne TCO-Schichten, wie ITO und AZO, werden ublicherweise in Anwendungen genutzt, bei denen hoch leitfähige und transparente Systeme notwendig sind. Beispiele großflächiger Anwendungen von TCO-Schichten sind in den Technologiegebieten Display, Touch-Panel, Elektroluminizenz, Elektrochromie, energieeffiziente Fenstersysteme und Photovoltaik zu finden. Gegenwärtig werden die besten ITO- und AZO-Qualitäten mit Schichten erreicht, die durch Magnetronsputtern unter Nutzung keramischer Targets bei Subtrattemperaturen oberhalb von 200 °C abgeschieden werden. In dieser Studie wurden ITO Schichten, die mittels reaktiven Magnetronsputterns von einem rotierenden Indium-Zinn-Target bzw. von einem keramischen ITO-Target abgeschieden wurden, sowie von einem Zink-Aluminium-Target reaktiv gesputterte AZO Schichten untersucht. Ein vielversprechender Ansatz zur Verbesserung der Eigenschaften von TCO-Schichten, die bei niedrigen Substrattemperaturen gesputtert wurden, ist der Einsatz einer Nachbehandlung durch die Blitzlampenmethode ,,Flash-Lamp-Annealing" (FLA). Diese Behandlung wurde fur ITO- und AZO-Schichten durchgefuhrt, die bei verschiedenen Temperaturen und Sauerstoffpartialdrucken abgeschieden wurden.
ISSN:0947-076X
1522-2454
DOI:10.1002/vipr.201700652